RTP/RTA Öfen

Wir haben uns auf den Bereich RTP/RTA (Rapid Thermal Process und Rapid Thermal Annealing) Prozessausrüstung spezialisiert und bieten verschiedene Modelle mit unterschiedlichen Ausführungen an. Unsere Ingenieure sind bemüht, die kundenspezifischen Bedürfnisse zu ermitteln und für Sie das passende Angebot zu erarbeiten. Gerne stehen wir auch für Versuche in unserem Hause zur Verfügung. Oder Sie senden Sie uns Muster mit Prozessvorgaben, und wir führen diese Versuche bei uns im Hause durch.

	Model	for wafer size	special	Option	Option
	RTP-1000-150 Frontlader	150mm,6	1000 °C	75 K/sec	T=1000 °C bis 400 °C besser 200 K/min. T= 400 °C bis 100 °C max. 30 K/min.
	RTP-1200-100 Frontlader	100mm², 100mm¸	1200 °C	150 K/sec	T=1200 °C up to 400 °C better 200 K/min. T= 400 °C up to 100 °C max. 30K/min.
	VPO-1000-300 Toplader	300 mm	Beladung von oben	für Wafer- und Halbleiterprozesse sowie kontamininierende Prozesse geeignet	Vakuum bis 10exp-6