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HPH-300 beheizter Chuck für 300 mm Wafer

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HPH-300 beheizter Chuck für 300 mm Wafer
HPH-300 beheizter Chuck für 300 mm Wafer
Dieser beheizte Chuck ermöglicht die Wärmebehandlung von Wafer mit einer Größe von3" bis 12" (300 mm); mit und ohne Lift-/Hebepins erhältlich.
   

HPP-155-L
 		HPP-155-L
Dieser beheizte Chuck ermöglicht die Wärmebehandlung von Wafern mit einer Größe von 3" bis 6" (150 mm), mit und ohne Lift-/Hebepins erhältlich
   

© 2007-2012 UniTemp GmbH · Last Update: 15.02.2012 · 10 User online